「局所クリーン化」とは、必要な場所や空間だけを周囲より高い清浄度にするクリーン化技術です。
なぜ局所的に行うのか？ なぜそれが必要なのか？ その理由はクリーン化の歴史にあります。
クリーン化の歴史
クリーン化の歴史をさかのぼると、第二次世界大戦時代のアメリカにたどり着きます。
粉塵の多い環境で作られた航空機等の精密部品は、故障が発生しやすいことが明らかになりました。
そこで、粉塵の少ない環境で製造するようになり、これが「クリーンルーム」の始まりだと言われています。
そして、クリーンルーム技術は、第2次世界大戦時に米国で放射性微粒子除去用として誕生した「HEPA（High Efficiency Particulate Air)」フィルタを基礎として、アポロ計画や半導体技術の進展とともに発展してきています。
＊出展；早わかりQ＆A クリーンルームの設計・施工マニュアル【改訂版】日本工業出版
このように、クリーン化技術は半導体産業を中心に進歩して来ましたが、現在では多くのものづくりの現場で不可欠な技術となっています。
局所クリーン化とは
局所クリーン化の技術は、半導体産業の進歩の中で既存のクリーンルームの清浄度をさらに上げる策として、クリーンルームの中に更にクリーン度のレベルが良いエリアを作るために生まれた技術です。
「クリーンブース」やFFU（ファンフィルターユニット:Fan Filter Unit）を使って清浄な空気で気流をコントロールすることによって、クリーンな空間を作ることができます。
近年の半導体の先端工場は、省電力・低ランニングコスト技術として、クリーンルームすべてのエリアの清浄化からウェーハ周辺のみを清浄化する局所クリーン化技術が主流となって来ています。
半導体以外の業界では、もともとクリーン化を意識した製造環境ではないことが多く、発塵が多い環境の中でゴミ・異物を減らす工夫が続けられてきました。
こうした背景から、特定の作業スペースだけを効率的に改善できる「局所クリーン化」の技術が応用されています。
特に、製品を精密加工する工程や製品が露出する工程を中心に、クリーン環境を構築する技術として期待されています。
局所クリーン化の構築方法
局所クリーン化を行う前に、製品目線で（１）加工点、（２）保管場所、（３）搬送系がどこなのか明確にしましょう。
そして、各エリア毎に作業者の動線も含めて立ち入り制限区域などのゾーニングを行います。
最後に、異物不良に繋がるエリアを特定し、局所クリーン化の対象とします。
局所クリーン化の技術は、クリーンルーム以上に管理が重要になって来ます。
製品の保管や作業エリア全体の気流管理、定期的な清掃など、クリーン化四原則に従った維持管理を行う事でゴミ・異物不良を低減し続けることができます。
